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  • CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置
    CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置 該設備在RESS工藝基礎上,適當放寬超臨界環(huán)境的調整范圍,可滿足不同物料粒子的制備,結品虢上蓋設置三通道,可升級為SEDS工藝。
    時間:2025-05-24型號:CXG-2型廠商性質:生產廠家瀏覽量:1488
  • SFE-2型超臨界納米粒子制備裝置
    SFE-2型超臨界納米粒子制備裝置該設備采用RESS 工藝,在超臨界狀態(tài)下,物料無表面張力束縛,迅速實現干操并保護,阻止晶核極附成長。通過改變流體的進入方向和物料溶液的進入方式,可實現GAS工藝,共用一套超臨界制備系統,在不影響工藝的前提下,節(jié)約成本。蓋體內壁經精確打磨,在噴咀噴出范圍內不會發(fā)生黏壁現象,也可根據用戶特定要求配置內襯,
    時間:2025-05-24型號:SFE-2型廠商性質:生產廠家瀏覽量:1617
  • 超臨界細微粒制備裝置
    所屬分類: 超臨界系列產品
    時間:2024-12-17型號:廠商性質:生產廠家瀏覽量:2351
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